2019年11月21日，十九届“华创会”国际知识产权保护论坛在武汉东湖国际会议中心成功举办。
来自国家知识产权局、世界知识产权组织、业内专家学者、国际国内知名企业代表，来自“一带一路”国家留学生代表，以及来自中国、美国、日本、巴基斯坦、印度尼西亚等15个国家和地区的300余名国内外嘉宾出席；武汉世隆科技作为湖北省高价值知识产权培育工程入选企业受邀参会。
论坛上，世界知识产权组织中国办事处顾问邓玉华、日本贸易振兴机构北京代表处知识产权部部长山本英一、美国高通公司副总裁兼法律顾问约翰A·斯科特等分别围绕不同主题发表了演讲。演讲嘉宾和参会人员就新形势下加强知识产权保护，构建一流营商环境的新路径展开了充分热烈的交流。
本次论坛以“加强知识产权保护，构建一流营商环境”为主题，旨在贯彻落实习近平总书记关于加强知识产权保护的重要指示精神，全面加强湖北省知识产权保护力度，深入开展知识产权保护国际交流合作，构建一流营商环境，助推湖北高质量发展；论坛由湖北省人民政府、国务院侨务办公室、武汉市人民政府主办，湖北省知识产权局承办。
